半導體、電子行業噴涂用二流體噴嘴的要求
工業噴霧噴嘴在電子行業有著廣泛的應用，可應用于半導體制造過程，硅晶片制造工序，等離子體顯示器制造、電子顯像管、以及印制電路板的制作（PCB）中，顯影、蝕刻、沖刷、除膜、噴涂等眾多工序。同時還能用于消除靜電，保障電子行業生產順利進行，是電子行業中不可缺重要裝置。
光刻膠，是一種對光敏感的化學物質。它是由光敏樹脂、增感劑、溶劑三種主要成分組成。經曝光之后，膠會產生化學反應，從而導致溶解度發生變化。利用這種性質，通過帶有特定圖形的掩膜就可以在基板上得到特定的圖形。我們首先將光刻膠涂覆到半導體材料上，經過曝光顯影后，留下的光刻膠部分相當于對底層進行保護，之后用蝕刻劑進行蝕刻，最終達到將掩膜版上特定的微細圖形轉移到襯底上的目的，因此光刻膠是微細加工技術中的關鍵性材料。
如何將光刻膠均勻且符合工藝要求的涂覆到襯底表面，也是非常關鍵的課題。目前涂覆工藝有旋涂、浸涂以及超聲波噴涂等工藝。旋涂，也就是離心旋轉法，是將一定量的光刻膠溶液滴在基材表面，隨后通過離心力的作用將膠鋪展到基片上，此種方法可以得到厚度均勻的光刻膠薄膜，但普遍存在膜厚偏薄且厚度范圍調節不穩定的問題。而且采用離心旋轉法涂膠，在旋轉過程中基片上多余的光刻膠被甩出，造成光刻膠浪費。而浸涂法，雖然操作方便效率高且涂料利用率也比較高，但只適用于形狀簡單的流線型材料，而且涂料量不好控制。
Atmax噴嘴是獲得的“外混合渦流式緊湊型精密二流體噴嘴"，非常適合霧化液體。
高速旋流將液體高效粉碎霧化成霧化噴霧。液滴尺寸分布也非常好。噴嘴內部結構非常簡單，大直徑可以穩定連續噴射，不會堵塞。為了獲得霧化液體，人們一直認為液體應該通過微小的孔噴射出來，但Atmax噴嘴是一個源自想法的原創產品。
還可以噴涂以前難以霧化的粘性液體、漿料和乳液。
由于是外置混合噴嘴，因此噴嘴內部不存在液體堵塞的可能性。
液體流路具有簡單的直線結構。
與傳統噴嘴相比，噴霧孔徑更大（約10至200倍）。
即使在低壓下也能進行噴霧操作，因此不會滴落或滴落。
即使噴射直徑很大，也可以噴射出細小的顆粒。渦流霧化提供非常均勻的顆粒尺寸。
可以用單個噴嘴控制噴射的顆粒從相當于5微米到雨滴大小。
該噴嘴也非常適合多種液體的混合噴涂。液體供應通過管道分別輸送到噴嘴附近，從而可以在噴嘴噴射部分進行混合噴射。當由于液體的性質而無法預先攪拌和混合時，它是有效的。
由于部件配置簡單，噴嘴可以根據使用環境和耐化學性采用特殊材料制造。我們可以選擇和制造耐熱、耐腐蝕、耐磨材料。
由于單噴嘴的噴射控制自由度較大，因此噴射條件的設定相對容易。通過控制供應的液體量和霧化氣體的流速，可以實現所需的噴射設置。
噴嘴尺寸極小，因此可以安裝在任何地方。
由于重量輕，因此可以輕松安裝在設備中。噴嘴可以使用注射口附近的安裝螺釘和螺母固定。
只有兩個部件，因此易于安裝和拆卸，維護簡單。
我們的技術可實現高效的霧化噴涂。與傳統噴嘴相比，霧化消耗的壓縮氣體更少。
由于噴嘴具有自吸功能，無需泵即可噴射低粘度液體。
通過微量精密噴霧，即可獲得平均粒徑約5μm的超細顆粒。它有一個非常小的噴嘴，可以與20-750瓦的空氣壓縮機一起運行。主要用途包括表面薄膜涂層、科學和醫療領域的極微量噴涂以及房間和各種設施的滅菌和消毒。
AM6和12型適合以極低的流量噴射細顆粒。壓縮氣體流量也比傳統噴嘴小。主要應用包括半導體晶圓精密噴涂、電子元件及功能材料制造過程中的薄膜形成、噴涂、鍍膜等。
基本結構與AM型相同，但噴嘴具有更大的噴霧流量。
應用包括成型工藝、高粘度液體涂層、噴霧干燥機噴嘴、在食品上噴灑調味液以及重油和工廠廢油的高溫燃燒。
Atmax噴嘴BN型雖然具有φ2.0～φ6.0mm的大液體噴射孔徑，但能夠進行極其穩定的噴霧。它適用于大噴霧流量的工作，并且具有作為批量生產設備的噴嘴頭使用的良好記錄。生產線上有噴涂工序、陶瓷上釉、壓鑄制造過程中的脫模劑噴涂盒、廢氣凈化設備的噴嘴頭等。該噴嘴能夠連續運轉而不會堵塞，并且能夠霧化大量的處理液。
該噴嘴專為適用于生產線和工廠中的大流量噴涂而開發。噴霧直徑大，可將粘度1000cp以下的低粘度液體燃燒至汽油、煤油、重油、汽車傳動廢油、食用廢油等高粘度易燃廢油以及油脂液體和固體相當于10,000cp的粉末，可用于霧化所混合的漿料等液體。
Atomax噴嘴CNP型具有φ3.5～φ5.6mm的超大液體直徑，即使是高粘度液體也能霧化，不會堵塞、下垂或滴落。所有零部件均由金屬制成，耐化學腐蝕，適合在高溫環境下連續運行。 CNW有兩個供液口，可以將兩種不同類型的液體分別供給到噴嘴，然后在噴嘴噴射口處混合噴射。根據工作條件，可以在不需要預先進行液體混合的情況下進行工作。
